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TFX4000OCD
TFX4000OCD——光学关键尺寸量测 光学关键尺寸量测产品基于光学膜厚量测平台,搭载自主研光学关键尺寸量测产品基于光学膜厚量测平台,搭载自主研发算法功能,可应用于显影后检查(ADI)、刻蚀后检查(AEI)等多种工艺段的二维或三维样品的线宽、侧壁角度(SWA)、高度(Height)/深度等关键尺寸(CD)特征或整体形貌测量。